DENVER, BANG COLORADO (MỸ) – Media OutReach – Ngày 3 tháng 8 năm 2020 – Advanced Energy (có cổ phiếu giao dịch tại Sàn giao dịch chứng khoán Nasdaq, New York, Mỹ, với mã là AEIS) – công ty hàng đầu thế giới về các giải pháp chuyển đổi, đo lường và điều khiển công suất chính xác cao vừa giới thiệu 3 giải pháp mới cho xử lý wafer bán dẫn nút công nghệ tiên tiến.

Ông Peter Gillespie, Phó chủ tịch kiêm Tổng giám đốc Bộ phận chất bán dẫn của Advanced Energy cho biết: “Lĩnh vực sản xuất chất bán dẫn đang phát triển và biến đổi nhanh chóng với sự phát triển của Cách mạng công nghiệp 4.0. Advanced Energy luôn đi đầu với các giải pháp năng lượng, cho phép các tính năng nhỏ hơn, quy trình nhanh hơn, kiểm soát chặt chẽ hơn và chi phí sở hữu thấp hơn, mà khách hàng của chúng tôi dựa vào để sản xuất chip, thúc đẩy nền kinh tế dữ liệu. Năng lượng cho quy trình ngày càng được công nhận là một yếu tố quyết định quan trọng trong xử lý wafer. Chúng tôi mong muốn được chia sẻ các sản phẩm của mình cung cấp “năng lượng cho quy trình”cũng như lần đầu tiên, các sản phẩm cung cấp năng lượng cho nền tảng với danh mục sản phẩm của Artesyn Embedded Power”.

Advanced Energy giới thiệu các giải pháp hệ thống mới có giá trị thay đổi cách các quy trình plasma được cung cấp:

eVoS™ LE: Advanced Energy giới thiệu nền tảng eVoS của mình, một công nghệ năng lượng plasma không hình sin hoàn toàn mới, cho phép kiểm soát năng lượng ion được nhắm mục tiêu chặt chẽ, điều này ngày càng quan trọng đối với các quá trình khắc và lắng đọng tiên tiến được sử dụng để tạo ra các tính năng của thiết bị hàng đầu ở mức 5nm trở xuống. Với việc cung cấp một giải pháp thay thế cho công suất plasma thiên vị RF hình sin thông thường. sử dụng các hệ thống đa tần số phức tạp, eVoS được thiết kế để tạo ra các phân phối năng lượng ion hẹp tùy chỉnh trong một giải pháp đơn lẻ.

Giải pháp của Advanced Energy cho phép kiểm soát trực tiếp hơn các phân phối năng lượng ion, hiệu quả năng lượng thiên vị tốt hơn và giảm tổn thất điện năng hơn các giải pháp thông thường, tất cả các lợi ích cần thiết để tạo ra các tính năng IC 3D ngày càng thách thức. eVoS LE (Low Energy – Năng lượng thấp) cung cấp khả năng kiểm soát năng lượng chính xác cho các ứng dụng dựa trên plasma quan trọng, chẳng hạn như lớp nguyên tử khắc (atomic layer etch – ALE), khắc, sạch, lắng đọng và lớp nguyên tử lắng đọng (atomic layer deposition – ALD).

Navigator® II FCi: Dựa trên sự thành công của nền tảng kết hợp trở kháng Navigator II hàng đầu trong ngành, Advanced Energy giới thiệu Navigator II FCi, một mạng kết hợp trạng thái rắn mới, nhanh hơn, giúp cải thiện giá trị, tốc độ và phạm vi điều chỉnh so với các sản phẩm mạng phù hợp tiêu chuẩn. Dựa trên công nghệ PIN-diode tốc độ cao, Navigator II FCi bổ sung cho Navigator II FastCap ™ đầu tiên có mặt trên thị trường của Advanced Energy ở trạng thái rắn, mở rộng phạm vi công suất và trở kháng, đồng thời cải thiện thời gian phản hồi đến một phần nghìn giây.

Do không có bộ phận chuyển động, nên độ tin cậy và khả năng tái tạo của Navigator II FC vượt xa so với các tụ điện chân không truyền thống. Navigator II FCi có sẵn để kích hoạt các ứng dụng ALE tiên tiến, với các khả năng được mở rộng để hỗ trợ phạm vi ứng dụng ngày càng mở rộng để đáp ứng các yêu cầu mới của thị trường. Công nghệ PIN-diode tốc độ cao Navigator II FCi hiện cũng đã có trong hệ thống cung cấp năng lượng RF và máy phát điện tích hợp mới, Paramount HFi.

Paramount® HFi: Lợi ích của hệ thống năng lượng RF tích hợp hiệu suất cao, chi phí thấp có sự hiện diện nhỏ của Paramount HFi, đáp ứng các yêu cầu nghiêm ngặt của các công cụ lắng đọng tiên tiến nhất hiện nay. Advanced Energy đã phát triển hệ thống phân phối và kết hợp hoàn chỉnh thương mại đầu tiên trong ngành vào năm 2000, với sản phẩm Apex. Apex vẫn là một đặc tính công suất RF lắng đọng, có khả năng chuyển đổi giữa bốn vị trí phạm vi điều chỉnh rời rạc. Paramount HFi mới mở rộng đáng kể khái niệm này với 32 vị trí điều chỉnh phạm vi, hệ thống điều khiển kỹ thuật số hoàn toàn được nâng cấp và cảm biến VI (đo lường RF) mới.

Với các khả năng mới này và cửa sổ hoạt động mở rộng của mình, Paramount HFi cung cấp kiểm soát quy trình tiên tiến, độ lặp lại cao, chế độ kích thích phổ biến để đồng bộ hóa nhiều hệ thống trong cấu hình cụm và giao thức truyền thông tiên tiến (EtherCAT). Kích thước nhỏ gọn của Paramount HFi, thời gian phản hồi mili giây và độ tin cậy cao khiến nó trở nên lý tưởng cho các bước quy trình lắng đọng thời gian ngắn hiện nay. Và ở đó tốc độ và độ tin cậy ngày càng được xem là các yếu tố quyết định trong việc xử lý NAND tiên tiến và các thiết bị ngăn xếp lặp lại cao khác.

Để biết chi tiết về các thông số kỹ thuật, hãy truy cập www.advancedenergy.com.

Thông tin về Advanced Energy

Advanced Energy (có cổ phiếu giao dịch tại Sàn giao dịch chứng khoán Nasdaq, New York, Mỹ, với mã là AEIS) là công ty hàng đầu thế giới trong việc thiết kế và sản xuất các giải pháp chuyển đổi, đo lường và kiểm soát năng lượng chính xác, kỹ thuật cao cho các ứng dụng và quy trình quan trọng. Các giải pháp năng lượng của Advanced Energy cho phép khách hàng đổi mới trong các ứng dụng phức tạp cho nhiều ngành công nghiệp, bao gồm thiết bị bán dẫn, công nghiệp, sản xuất, viễn thông, điện toán trung tâm dữ liệu và chăm sóc sức khỏe.

Với bí quyết kỹ thuật và dịch vụ và hỗ trợ đáp ứng trên toàn thế giới, Advanced Energy xây dựng quan hệ đối tác hợp tác để đáp ứng tiến bộ công nghệ, thúc đẩy tăng trưởng cho khách hàng và đổi mới tương lai của năng lượng. Có trụ sở chính tại Denver, bang Colorado (Mỹ), Advanced Energy đã dành hơn ba thập kỷ để hoàn thiện giải phán năng lượng cho khách hàng toàn cầu. Để biết thêm thông tin, hãy truy cập www.advancedenergy.com.